產(chǎn)品詳情
濺射系統(tǒng)主要通過物理氣相沉積技術(shù)制備薄膜材料，具有以下核心功能與作用:
薄膜材料制備
采用磁控濺射技術(shù)，可在高真空環(huán)境中通過離子轟擊靶材實現(xiàn)原子級沉積，制備金屬、半導體、介質(zhì)等不同材質(zhì)的薄膜，支持單層、多層及復合膜結(jié)構(gòu)。
高效精準控制
通過磁場約束等離子體提升濺射效率，配備自動化控制系統(tǒng)實現(xiàn)精準鍍膜。例如，磁控濺射系統(tǒng)可調(diào)節(jié)靶材與工件的距離以維持鍍膜均勻性，支持快速抽真空和低顆粒污染工藝。
多領(lǐng)域應用
廣泛用于材料科學、光學、電子等領(lǐng)域，例如制備硬質(zhì)膜、金屬膜、半導體膜以及光學涂層。在半導體加工中用于晶圓鍍膜，光學領(lǐng)域則用于濾光片等精密元件的制備。
質(zhì)量控制
通過行星系統(tǒng)旋轉(zhuǎn)工件架提升鍍膜均勻性，結(jié)合光學監(jiān)控系統(tǒng)確保高精度重復性，適用于小批量生產(chǎn)及研發(fā)需求。
薄膜材料制備
采用磁控濺射技術(shù)，可在高真空環(huán)境中通過離子轟擊靶材實現(xiàn)原子級沉積，制備金屬、半導體、介質(zhì)等不同材質(zhì)的薄膜，支持單層、多層及復合膜結(jié)構(gòu)。
高效精準控制
通過磁場約束等離子體提升濺射效率，配備自動化控制系統(tǒng)實現(xiàn)精準鍍膜。例如，磁控濺射系統(tǒng)可調(diào)節(jié)靶材與工件的距離以維持鍍膜均勻性，支持快速抽真空和低顆粒污染工藝。
多領(lǐng)域應用
廣泛用于材料科學、光學、電子等領(lǐng)域，例如制備硬質(zhì)膜、金屬膜、半導體膜以及光學涂層。在半導體加工中用于晶圓鍍膜，光學領(lǐng)域則用于濾光片等精密元件的制備。
質(zhì)量控制
通過行星系統(tǒng)旋轉(zhuǎn)工件架提升鍍膜均勻性，結(jié)合光學監(jiān)控系統(tǒng)確保高精度重復性，適用于小批量生產(chǎn)及研發(fā)需求。
