產品詳情
全自動 RTR 無縫曝光機是 IC 半導體、FPC、PCB、金屬蝕刻制造的核心設備，憑借先進技術與多元功能，助力企業(yè)實現(xiàn)高效生產。
設備具備雙面對位與雙面曝光能力，搭配雙層平臺，可交替曝光兩塊基板，大幅提升生產效率。獨有的拉料糾偏控制系統(tǒng)，通過實時監(jiān)測與動態(tài)調整，確?；鍌鬏斁珳?，避免曝光失真。它兼容膠片與玻璃菲林，支持干膜、濕膜及非接觸真空模式，一鍵切換滿足不同工藝需求，有效減少膜材損傷，提升良率。
該曝光機適用單面軟板無縫作業(yè)、沖孔板濕膜作業(yè)等多種場景，適配 320×420mm、320×500mm、500×500mm 等多尺寸基板，覆蓋不同生產需求。高解析度 UVLED 光源，光強均勻性超 95%，解析度達 20μm 以下，助力實現(xiàn)細線路曝光，且能耗低、壽命長。上下框可抽出式清潔設計，方便快捷，顯著縮短維護時間。
無論是半導體封裝的精密線路制作，還是 FPC、PCB 的高效生產，全自動 RTR 無縫曝光機都能以卓越性能，為您的制造工藝保駕護航，賦能企業(yè)提升競爭力。
可根據(jù)客戶需求定制方案，具體要求面議
