產(chǎn)品詳情
德國(guó)MLase準(zhǔn)分子激光器MLI200/500/1000用于工業(yè)切割打孔、標(biāo)記雕刻、焊接釬焊
德國(guó) MLase 用于工業(yè)應(yīng)用的準(zhǔn)分子激光器具有切割打孔、標(biāo)記雕刻、焊接釬焊等功能，廣泛應(yīng)用于電子、半導(dǎo)體、材料加工等行業(yè)。MLase 準(zhǔn)分子激光器為工業(yè)應(yīng)用提供了高效、穩(wěn)定的紫外光源，在材料加工等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。
MLase 準(zhǔn)分子激光器覆蓋所有典型波長(zhǎng)（193nm、248nm、308nm），每脈沖能量范圍高達(dá) 200mJ 以上，脈沖重復(fù)率高達(dá) 1,000 Hz。
特點(diǎn)：
能量穩(wěn)定：光束輪廓均勻，能量穩(wěn)定性≤2%，可確保工業(yè)加工過程的一致性和穩(wěn)定性，適用于要求苛刻的應(yīng)用場(chǎng)景。
高可靠性：采用全金屬密封管等技術(shù)，激光腔壽命大于 20 億次脈沖，具有較長(zhǎng)的使用壽命和高可靠性，且維護(hù)成本低。
結(jié)構(gòu)緊湊：為緊湊型設(shè)計(jì)，尺寸較小，如 MLI-200 尺寸為 560x315x445mm，重量 75kg，易于操作和集成到各種工業(yè)生產(chǎn)系統(tǒng)中。
多種冷卻方式：部分型號(hào)如 MLI-200 默認(rèn)風(fēng)冷，后綴為 LC 的型號(hào)還可選主動(dòng)水冷，可通過家用水或外部熱交換器冷卻，無需去離子水，能實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的連續(xù)運(yùn)行。
主要參數(shù)：
波長(zhǎng)：氣體介質(zhì)為 ArF 時(shí)波長(zhǎng)為 193nm，氣體介質(zhì)為 KrF 時(shí)波長(zhǎng)為 248nm。
重復(fù)頻率：有 200Hz、500Hz、1000Hz 等多種選擇。
脈沖能量：標(biāo)準(zhǔn)型單脈沖能量為 8mJ 或 12mJ，高功率型單脈沖能量可達(dá) 12mJ 或 16mJ。
脈沖寬度：一般為 5-10ns，部分型號(hào)在 5-15ns 范圍內(nèi)。
尺 寸：560x355x445毫米（不含突出部件）。
工業(yè)應(yīng)用包括：
光纖布拉格光柵 （FBG） 的書寫
光學(xué)檢測(cè)和計(jì)量，例如測(cè)試微光學(xué)器件
激光結(jié)構(gòu)和劃線
陶瓷、金屬或塑料等材料的微加工
激光燒蝕/脈沖激光沉積（PLD、ICP-MS）
在半導(dǎo)體制造中，用于檢測(cè)掩?；蛑苯泳A加工
主要型號(hào)介紹：
MLI-200：最大重復(fù)頻率為 200Hz，當(dāng)氣體介質(zhì)為 ArF 時(shí)，波長(zhǎng)為 193nm，穩(wěn)定脈沖能量為 6mJ，穩(wěn)定脈沖功率為 1.2W，能量穩(wěn)定性為 2%，梁尺寸為 6x3mm，光束發(fā)散度為 2x1mrad，脈沖持續(xù)時(shí)間為 5-10ns。
MLI-500：最大重復(fù)頻率為 500Hz，氣體介質(zhì)為 ArF 時(shí)波長(zhǎng)為 193nm，氣體介質(zhì)為 KrF 時(shí)波長(zhǎng)為 248nm。ArF 介質(zhì)下穩(wěn)定脈沖能量為 6mJ，KrF 介質(zhì)下為 10mJ，對(duì)應(yīng)穩(wěn)定脈沖功率分別為 3.0W 和 5.0W，能量穩(wěn)定性為 2%。梁尺寸在 ArF 介質(zhì)下為 6x3mm，KrF 介質(zhì)下有 6x3mm 或 6x6mm 等規(guī)格，光束發(fā)散度為 2x1mrad，脈沖持續(xù)時(shí)間為 5-10ns 或 5-15ns。
MLI-1000：最大重復(fù)頻率可達(dá) 1000Hz，氣體介質(zhì)為 KrF 時(shí)波長(zhǎng)為 248nm，穩(wěn)定脈沖能量為 10mJ，穩(wěn)定脈沖功率為 10W，能量穩(wěn)定性為 2%，梁尺寸為 6x3mm，光束發(fā)散度為 2x1mrad，脈沖持續(xù)時(shí)間為 5-15ns。
型號(hào)系列：
MLI-200
MLI-500
德國(guó) MLase 用于工業(yè)應(yīng)用的準(zhǔn)分子激光器具有切割打孔、標(biāo)記雕刻、焊接釬焊等功能，廣泛應(yīng)用于電子、半導(dǎo)體、材料加工等行業(yè)。MLase 準(zhǔn)分子激光器為工業(yè)應(yīng)用提供了高效、穩(wěn)定的紫外光源，在材料加工等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。
MLase 準(zhǔn)分子激光器覆蓋所有典型波長(zhǎng)（193nm、248nm、308nm），每脈沖能量范圍高達(dá) 200mJ 以上，脈沖重復(fù)率高達(dá) 1,000 Hz。
特點(diǎn)：
能量穩(wěn)定：光束輪廓均勻，能量穩(wěn)定性≤2%，可確保工業(yè)加工過程的一致性和穩(wěn)定性，適用于要求苛刻的應(yīng)用場(chǎng)景。
高可靠性：采用全金屬密封管等技術(shù)，激光腔壽命大于 20 億次脈沖，具有較長(zhǎng)的使用壽命和高可靠性，且維護(hù)成本低。
結(jié)構(gòu)緊湊：為緊湊型設(shè)計(jì)，尺寸較小，如 MLI-200 尺寸為 560x315x445mm，重量 75kg，易于操作和集成到各種工業(yè)生產(chǎn)系統(tǒng)中。
多種冷卻方式：部分型號(hào)如 MLI-200 默認(rèn)風(fēng)冷，后綴為 LC 的型號(hào)還可選主動(dòng)水冷，可通過家用水或外部熱交換器冷卻，無需去離子水，能實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的連續(xù)運(yùn)行。
主要參數(shù)：
波長(zhǎng)：氣體介質(zhì)為 ArF 時(shí)波長(zhǎng)為 193nm，氣體介質(zhì)為 KrF 時(shí)波長(zhǎng)為 248nm。
重復(fù)頻率：有 200Hz、500Hz、1000Hz 等多種選擇。
脈沖能量：標(biāo)準(zhǔn)型單脈沖能量為 8mJ 或 12mJ，高功率型單脈沖能量可達(dá) 12mJ 或 16mJ。
脈沖寬度：一般為 5-10ns，部分型號(hào)在 5-15ns 范圍內(nèi)。
尺 寸：560x355x445毫米（不含突出部件）。
工業(yè)應(yīng)用包括：
光纖布拉格光柵 （FBG） 的書寫
光學(xué)檢測(cè)和計(jì)量，例如測(cè)試微光學(xué)器件
激光結(jié)構(gòu)和劃線
陶瓷、金屬或塑料等材料的微加工
激光燒蝕/脈沖激光沉積（PLD、ICP-MS）
在半導(dǎo)體制造中，用于檢測(cè)掩?；蛑苯泳A加工
主要型號(hào)介紹：
MLI-200：最大重復(fù)頻率為 200Hz，當(dāng)氣體介質(zhì)為 ArF 時(shí)，波長(zhǎng)為 193nm，穩(wěn)定脈沖能量為 6mJ，穩(wěn)定脈沖功率為 1.2W，能量穩(wěn)定性為 2%，梁尺寸為 6x3mm，光束發(fā)散度為 2x1mrad，脈沖持續(xù)時(shí)間為 5-10ns。
MLI-500：最大重復(fù)頻率為 500Hz，氣體介質(zhì)為 ArF 時(shí)波長(zhǎng)為 193nm，氣體介質(zhì)為 KrF 時(shí)波長(zhǎng)為 248nm。ArF 介質(zhì)下穩(wěn)定脈沖能量為 6mJ，KrF 介質(zhì)下為 10mJ，對(duì)應(yīng)穩(wěn)定脈沖功率分別為 3.0W 和 5.0W，能量穩(wěn)定性為 2%。梁尺寸在 ArF 介質(zhì)下為 6x3mm，KrF 介質(zhì)下有 6x3mm 或 6x6mm 等規(guī)格，光束發(fā)散度為 2x1mrad，脈沖持續(xù)時(shí)間為 5-10ns 或 5-15ns。
MLI-1000：最大重復(fù)頻率可達(dá) 1000Hz，氣體介質(zhì)為 KrF 時(shí)波長(zhǎng)為 248nm，穩(wěn)定脈沖能量為 10mJ，穩(wěn)定脈沖功率為 10W，能量穩(wěn)定性為 2%，梁尺寸為 6x3mm，光束發(fā)散度為 2x1mrad，脈沖持續(xù)時(shí)間為 5-15ns。
型號(hào)系列：
MLI-200
MLI-500
MLI-1000
MLI-500LC
MLI-1000LC
MLI-ARF1000LC
MLI-HP200 KRF-FBG
MLI-500 KrF
MLI 500 KrF HP
MLI-1000KrF
德國(guó)MLase準(zhǔn)分子激光器MLI200/500/1000用于工業(yè)切割打孔、標(biāo)記雕刻、焊接釬焊
