產(chǎn)品詳情
濕度保持在(45±5)%;污染氣體分子保持在十億分之一以下。哈默納科自動搬運諧波SHD-40-100-2SH為了確保超凈室的清潔度,要使用能夠濾掉99. 9999%以上的微粒的化學過濾器。此外,芯片制造環(huán)境的溫度變化和振動也會損害光刻加工時的對準和曝光精度。為了保證曝光機的納米級對準精度,哈默納科自動搬運諧波SHD-40-100-2SH需要嚴格控制曝光機工作環(huán)境的溫度變化,并對曝光機安裝基礎(chǔ)進行隔振處理。
半導體制造的工程設(shè)備包括凈化室、凈化臺、晶圓標準機械接口箱、自動搬送設(shè)備和環(huán)境控制設(shè)備(超凈水制造、廢氣處理、廢液處理、精制設(shè)備、分析設(shè)備、探測器)等。哈默納科自動搬運諧波SHD-40-100-2SH另外還需要一些靜電處理與防護設(shè)備。